DI水 vs UPW超純水：為何 MiraSAT濕式無塵布 在半導體行業中使用超純水清潔半導體真空機台

更新時間: 10/11/2024      上傳者: 59Clean

在半導體行業中，保持潔淨、無污染的環境至關重要，特別是在清潔真空腔體時。任何微量污染物都可能干擾精密的製造過程，導致晶圓缺陷和高昂的成本問題。選擇適當的清潔耗材在此過程中扮演了關鍵角色，特別是濕式無塵布所使用的水質。

在選擇去離子水（DI）和超純水（UPW）作為清潔應用時，有必要了解這兩者之間的區別，以及為什麼 MiraSAT 濕式無塵布選擇使用超純水，來滿足半導體環境中苛刻的要求。

什麼是去離子水（DI Water）？
去離子水是透過離子交換過程生成的，該過程去除了水中的溶解礦物鹽和離子。這種純化水能有效用於多種清潔應用。然而，DI 水可能仍含有有機化合物、微生物或顆粒，這些在像真空腔體這樣的超潔淨環境中可能造成問題。

什麼是超純水(Ultra-Pure Water)？
超純水（UPW）將水的純化提升到最高水準。除了去除離子，超純水還經過過濾，去除了顆粒、溶解氣體和有機分子，使其符合最嚴格的純度標準，這常用於半導體製造。超純水幾乎不含任何雜質，其中有機碳（TOC）含量以十億分之一（ppb）為單位測量，導電率範圍在 0.055 µS/cm，是目前可得的最純淨的水。

為什麼超純水更適合清潔真空腔體
1. 卓越的污染控制：在半導體製造中，哪怕是微小的污染物也會導致晶圓嚴重缺陷。真空腔體對任何顆粒、離子或有機污染物都非常敏感，這些可能干擾製程。超純水由於其極高的純度，將清潔過程中引入污染的風險降至最低，確保為關鍵的半導體製程提供更潔淨的環境。
2. 減少顆粒生成：真空腔體容易受到顆粒污染的影響，這可能導致沉積缺陷或表面不平等問題。超純水能極大化的降低顆粒污染風險。
3. 無殘留形成：與去離子水不同，超純水不含溶解氣體和有機化合物，這意味著在蒸發過程中不會留下殘留物。這對真空腔體尤為關鍵，因為殘留物可能干擾製程，導致需要進行額外清潔或維護。

為什麼 MiraSAT 濕式無塵布使用超純水
Foamtec 的 MiraSAT濕式無塵布預浸超純水有其理由：提供最潔淨且最有效的清潔解決方案，適用於半導體製造中的真空腔體。以下是為何超純水是 MiraSAT濕式無塵布的最佳選擇：
1. 最佳顆粒去除：MiraSAT 濕式無塵布設計能有效去除表面污染物。使用超純水，這些濕式無塵布能確保不留下任何污染物，符合高真空腔體所需的嚴格潔淨標準。
2. 無離子污染：超純水確保在清潔過程中不會有離子殘留，防止了可能干擾真空腔體內精密製程的潛在污染。
3. 最大化良率：使用MiraSAT 預浸超純水的濕式無塵布，幫助半導體製造商保持更潔淨的腔體，降低缺陷率並提高良率。這最終成就出更高質量的產品和更少的製程中斷。

結論
雖然去離子水適用於許多一般清潔應用，但它無法滿足半導體製造中清潔真空腔體所需的極高純度標準。超純水是更好的選擇，能提供污染控制、顆粒去除和製程一致性。Foamtec 的 MiraSAT 濕式無塵布預浸超純水，專門為半導體行業的苛刻要求而設計，確保能為真空腔體提供更潔淨、更高效的清潔過程。

MiraSAT產品連結:https://www.59clean.com.tw/tw/html/product/show.php?pid=198&cid=77&cid2=79