DI水 vs UPW超纯水：为何 MiraSAT湿式无尘布在半导体行业中使用超纯水清洁半导体真空设备

更新时间: 10/11/2024     上传者: 59Clean

在半导体行业中，保持洁净、无污染的环境至关重要，特别是在清洁真空腔体时。任何微量污染物都可能干扰精密的制造过程，导致晶圆缺陷和高昂的成本问题。选择适当的清洁耗材在此过程中扮演了关键角色，尤其是湿式无尘布所使用的水质。

在选择去离子水（DI）和超纯水（UPW）作为清洁应用时，有必要了解这两者之间的区别，以及为什么 MiraSAT 湿式无尘布选择使用超纯水，以满足半导体环境中苛刻的要求。

什么是去离子水（DI Water）？
去离子水是通过离子交换过程生成的，去除了水中的溶解矿物盐和离子。这种纯化水能有效用于多种清洁应用。然而，DI水可能仍含有有机化合物、微生物或颗粒，这些在像真空腔体这样的超洁净环境中可能造成问题。

什么是超纯水（Ultra-Pure Water）？
超纯水（UPW）将水的纯化提升到最高水平。除了去除离子，超纯水还经过过滤，去除了颗粒、溶解气体和有机分子，使其符合最严格的纯度标准，这常用于半导体制造。超纯水几乎不含任何杂质，其中有机碳（TOC）含量以十亿分之一（ppb）为单位测量，电导率范围在0.055 µS/cm，是目前可得的最纯净的水。

为什么超纯水更适合清洁真空腔体
1. 卓越的污染控制：在半导体制造中，哪怕是微小的污染物也会导致晶圆严重缺陷。真空腔体对任何颗粒、离子或有机污染物都非常敏感，可能干扰制造过程。超纯水由于其极高的纯度，将清洁过程中引入污染的风险降至最低，确保为关键的半导体工艺提供更洁净的环境。
2. 减少颗粒生成：真空腔体容易受到颗粒污染的影响，这可能导致沉积缺陷或表面不平整问题。超纯水能极大降低颗粒污染风险。
3. 无残留形成：与去离子水不同，超纯水不含溶解气体和有机化合物，这意味着在蒸发过程中不会留下残留物。这对真空腔体尤为关键，因为残留物可能干扰制造过程，导致需要额外清洁或维护。

为什么 MiraSAT 湿式无尘布使用超纯水
Foamtec 的 MiraSAT湿式无尘布预浸超纯水有其理由：提供最洁净且最有效的清洁解决方案，适用于半导体制造中的真空腔体。以下是为何超纯水是 MiraSAT湿式无尘布的最佳选择：

1. 最佳颗粒去除：MiraSAT湿式无尘布设计能有效去除表面污染物。使用超纯水，这些湿式无尘布能确保不留下任何污染物，符合高真空腔体所需的严格洁净标准。
2. 无离子污染：超纯水确保在清洁过程中不会有离子残留，防止可能干扰真空腔体内精密过程的潜在污染。
3. 最大化良率：使用MiraSAT预浸超纯水的湿式无尘布，帮助半导体制造商保持更洁净的腔体，降低缺陷率并提高良率。这最终成就出更高质量的产品和更少的过程中断。

结论
虽然去离子水适用于许多一般清洁应用，但它无法满足半导体制造中清洁真空腔体所需的极高纯度标准。超纯水是更好的选择，能提供污染控制、颗粒去除和过程一致性。Foamtec 的 MiraSAT湿式无尘布预浸超纯水，专门为半导体行业的苛刻要求而设计，确保能为真空腔体提供更洁净、更高效的清洁过程。

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